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SK海力士展示176层4D NAND闪存

导读 在这个正是日新月异的时代,飞黄腾达的时代,人类的科技、生活已经在近几年快速的进入快车道,在这年头有台电脑、手机已不是稀奇的

在这个正是日新月异的时代,飞黄腾达的时代,人类的科技、生活已经在近几年快速的进入快车道,在这年头有台电脑、手机已不是稀奇的事,因为几乎每家每户都会有电脑,电脑仿佛将我们彼此链接在一起,下面分析一片关于电脑与手机各种新型科技产品的文章供大家阅读。

SK海力士宣布已经完成了业界最多层的,由176层组成的多层512 Gb三层单元(TLC)4D NAND闪存的开发。该公司表示,上个月向控制公司提供了样品,以便他们可以围绕它设计产品。以前,SK hynix使用96层NAND闪存产品来推广其4D技术,该产品将Charge Trap Flash和高集成度Peri相结合。

新型176层NAND闪存是第三代4D产品,该公司表示,该技术可确保每片晶圆拥有业界最佳数量的芯片。每个晶片更多的芯片使位生产率比上一代产品提高了35%,具有差异化的成本竞争力。通过采用两格单元阵列选择技术,单元读取速度比上一代提高了20%。

通过采用加速技术而不增加进程数量,SK hynix还将数据传输速度提高了33%,达到1.6 Gbps。使用新技术的消费者和企业固态硬盘将在明年年中面世,最大读取速度提高70%,最大写入速度提高35%。

SK hynix表示,它克服了增加NAND闪存产品中的层数所带来的挑战,例如单元电流减少,通道扭曲以及由于双堆叠未对准而导致的单元分布恶化。它使用单元中间层高度减小,层可变时序控制和超精确对准来克服这些障碍。

将使用新型176层NAND闪存开发的产品包括采用新型NAND的双倍密度的1Tb产品。存储产品始终欢迎更快的读写速度,这对于企业用户和计算机爱好者来说是个好消息。没有迹象表明使用新技术可能会花费多少产品。